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咨询热线：13684932558   QQ：1581129236e光在治疗过程中，光能主要用于调整靶组织的阻抗值，引导RF(射频)能量集中作用于靶组织。光能不是主要治疗能量，从而避免了主要能量的反射和折射问题。基于RF(射频)的特性，RF(射频)在皮肤组织产生的热效应取决于电流密度，电流密度的分布取决于皮肤组织的阻抗分布，组织温度越高阻抗越低，电流密度越大，产生的热效应越高;反之，组织温度越低阻抗越高，电流密度越小，产生的热效应越低。所以靶组织对起主要治疗作用的RF(射频)能量的吸收并不受表皮色素屏障的影响，RF(射频)能量可以充分作用于靶组织，得到良好的治疗效果。 　　e光的穿透深度取决于RF(射频)的穿透深度，RF(射频)的穿透深度是RF(射频)两极之间距离的一半，根据这个原理，e光治疗系统根据不同的治疗目的合理设计的治疗头，使得E光的穿透深度完全满足于治疗要求，最深穿透可达皮下15mm，进一点确保了治疗的有效性。 　　e光系统中的光能和射频能均可单独控制，操作者在治疗过程中可以选用较低的光能和较高的射频能，从而将术后产生表皮灼伤的风险降为最低。所以e光治疗后，基本上不会出现诸如面部红肿之类的并发症，更不会出现紫癜。在使用e光进行治疗时，操作者根本不用担心由于高能量或者治疗头离皮肤过近所造成的表皮灼伤。 　　e光系统独特的专利技术——ISL(实时皮肤温度/阻抗监测系统)和强效的冷却系统，进一步保护表皮并确保临床疗效。